ASML与蔡司：5纳米级精细图案印刷的下一代高数值孔径曝光设备有望在10年内实现
ASML·자이스, 5나노미터급 미세 패턴 인쇄하는 차세대 하이퍼 NA 노광 장비 10년 내 실현 가능
来源 글로벌이코노믹
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- ASML与蔡司：5纳米级精细图案印刷的下一代高数值孔径曝光设备有望在10年内实现 ASML·자이스, 5나노미터급 미세 패턴 인쇄하는 차세대 하이퍼 NA 노광 장비 10년 내 실현 가능 글로벌이코노믹 · · 首发
ASML·자이스, 5나노미터급 미세 패턴 인쇄하는 차세대 하이퍼 NA 노광 장비 10년 내 실현 가능
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